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          公司以自主研發的離子源技術、等離子體源技術及高電壓技術、自動控制技術、真空技術,先后開發了多種類型的材料表面處理設備及相關工藝,已廣泛應用于機械加工、半導體、石油鉆井、航空航天及生物醫學領域,以國內領先的技術與產品性能獲得用戶的極高評。

        復合離子鍍膜設備

          鍍膜設備是一種在將電弧、磁控濺射和離子源結合的鍍膜技術。具有膜層密度高、附著力強、沉積速度快以及能使基本材料(金屬)表面合金化等特點。


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          鍍膜設備是一種在將電弧、磁控濺射和離子源結合的鍍膜技術。具有膜層密度高、附著力強、沉積速度快以及能使基本材料(金屬)表面合金化等特點。


        鍍膜設備是一種在將電弧、磁控濺射和離子源結合的鍍膜技術。具有膜層密度高、附著力強、沉積速度快以及能使基本材料(金屬)表面合金化等特點??芍苽涓鞣N金屬化合物尤其是氮化物膜層,如TiN、ZrN、TiAIN、ZrC等超硬、耐腐蝕膜層。

         

         

            

        離子源參數及設備配置可根據用戶要求祝賀專門設

         

        應用范圍:

        于工業生產中的各種刀、模具等耐磨損材料的表面強化及衛生潔具、鎖具等金屬制品的表面處理。

         

        主要配置:

        小多弧源

        平面/柱狀孿生磁控濺射

        條形陽極層離子源


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