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        產品中心 PRODUCT

          公司以自主研發的離子源技術、等離子體源技術及高電壓技術、自動控制技術、真空技術,先后開發了多種類型的材料表面處理設備及相關工藝,已廣泛應用于機械加工、半導體、石油鉆井、航空航天及生物醫學領域,以國內領先的技術與產品性能獲得用戶的極高評。

        全方位離子注入與沉積系統

          全方位離子注入是一種先進的材料表面改性新技術。其基本原理是:將需處理的工件直接浸泡在等離子體中,在工件上施加負脈沖高壓,離子通過工件周圍的等離子體鞘層的加速從各個方向垂直的注入工件表面,從而改變零件表面層的物理和化學特性。該設備功能強大,可以注入氣體和金屬離子,亦可實現增強沉積膜,在一定深度內,形成與基本之間連續過渡的表面改性層。此改性層的結合力,遠優于PVD、CVD涂層。它可明顯的提高材料的耐磨、耐腐蝕等性能,從而提高其使用壽命。


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          全方位離子注入是一種先進的材料表面改性新技術。其基本原理是:將需處理的工件直接浸泡在等離子體中,在工件上施加負脈沖高壓,離子通過工件周圍的等離子體鞘層的加速從各個方向垂直的注入工件表面,從而改變零件表面層的物理和化學特性。該設備功能強大,可以注入氣體和金屬離子,亦可實現增強沉積膜,在一定深度內,形成與基本之間連續過渡的表面改性層。此改性層的結合力,遠優于PVD、CVD涂層。它可明顯的提高材料的耐磨、耐腐蝕等性能,從而提高其使用壽命。



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                低能離子源                   脈沖磁過濾弧源            圓形霍爾離子源
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        應用范圍:

               可廣泛用于機械、化工、半導體、航空、航天及生物醫學等行業。它具有不需要工件轉動并同時進行全方位離子注入的特點,特別適用于處理形狀復雜的高精度、貴重、關鍵零部件。

        主要配置:

        ?  脈沖磁過濾等離子源

        RF等離子體源

        ? 脈沖負高壓電源

        中頻偏壓電源


        技術參數:


        真空室壓強

        <2x10-4Pa

        脈沖寬頻

        10-50μs

        脈沖頻率

        50-500Hz

        脈沖負高壓

        10-50KV

        等離子體密度

        105-1010CM-3

         

         




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