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        產品中心 PRODUCT

          公司以自主研發的離子源技術、等離子體源技術及高電壓技術、自動控制技術、真空技術,先后開發了多種類型的材料表面處理設備及相關工藝,已廣泛應用于機械加工、半導體、石油鉆井、航空航天及生物醫學領域,以國內領先的技術與產品性能獲得用戶的極高評。

        大型多功能離子鍍膜機

          真空離子鍍膜設備為大型電弧離子/磁控濺射復合鍍膜機,電弧離子鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種方法可獨立工作。


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          真空離子鍍膜設備為大型電弧離子/磁控濺射復合鍍膜機,電弧離子鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種方法可獨立工作。



         


        真空離子鍍膜設備為大型電弧離子/磁控濺射復合鍍膜機,電弧離子鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種方法可獨立工作。

        一、產品尺寸:

        1.真空室內徑2000mm,長約4000mm,真空室厚度18mm,外壁有水冷,側門上焊接水冷管

        2.配備兩臺30000L/S擴散泵作為主抽,并且配備羅茨泵和兩臺機械泵作為前級,相應都配有氣動擋板閥。

        3.配備11套圓形陽極層離子源,22套直通式電弧磁過濾等離子體源分布兩排,11套伸縮式磁控濺射沉積源。

         

        二、其他配置系統:

        1.工件支撐和旋轉系統

        結構設計便于工件的吊裝,工件轉架可以整體平移進出真空室。

        2.真空加熱烘烤除氣系統

        對真空內壁和工件進行加熱烘烤,除去附著和殘余的氣體,達到更為清潔的真空狀態。

        3.工件溫度測量與控制系統

        通過溫度監測,控制沉積薄膜時等離子體源和磁控濺射靶的輸出功率,以及偏壓電源的功率和連續處理時間。

        4.真空測量和控制系統

        測量真空室兩端的真空度,調節流量計送氣量和控制泵抽速以調節真空室內壓力。

        5.循環冷卻系統

        真空泵組單獨供水冷卻,并配有水流監控器。

        三:應用范圍

        磁過濾式陰極弧沉積金屬涂層(已應用型號) 


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