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        您好,歡迎您訪問成都同創材料表面科技有限公司官網!
        產品中心 PRODUCT

          公司以自主研發的離子源技術、等離子體源技術及高電壓技術、自動控制技術、真空技術,先后開發了多種類型的材料表面處理設備及相關工藝,已廣泛應用于機械加工、半導體、石油鉆井、航空航天及生物醫學領域,以國內領先的技術與產品性能獲得用戶的極高評。

        等離子源

          各式等離子源包括,低能離子源、陽極層離子源、矩形氣體離子源、矩形射頻離子源等


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          各式等離子源包括,低能離子源、陽極層離子源、矩形氣體離子源、矩形射頻離子源等


            

        低能離子源      MEVV金屬離子源    矩形氣體離子源

           

        小多弧     直流磁過濾弧源      平面磁控濺射靶

          

        高能氣體離子源      脈沖磁過濾弧源        陽極層離子源

         

        矩形射頻離子源    圓形霍爾離子源

        柱狀多弧/磁控濺射靶

        技術參數:

         

         

               技術指標

         

        名稱

        束斑(mm

        能量(kev

        束流

        離子密度

        主要用途

        低能輔助離子源

        Φ80-120

        0.1-2

        0-100mA

         

        離子束清洗、沉積

        低能濺射離子源

        Φ50

        1-4

        0-100mA

         

        離子束濺射

        陽極層離子源

        100-2000

        0.2-2

        0.1-5A

         

        在線離子束清洗、活化、沉積

        高能汽車離子源

        Φ100-150

        30-80

        0-10 mA

         

        離子注入

        高能金屬離子源

        Φ100-500

        30-80

        0-10 mA

         

        離子注入

        射頻等離子體源

        Φ200-300

        0.01

         

        109-10

        離子注入、活化、沉積

        脈沖磁過濾弧源

        Φ100-200

        0.04

        0.1-1A

         

        離子注入、沉積

        直流磁過濾弧源

        Φ100-200

        0.04

        0.5-3A

         

        離子束沉積

        技術指標不局限與所列參數,可根據用戶需求定制


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